30.01.2006г.
Корпорация Intel первой в мире продемонстрировала работающие микросхемы, изготовленные по 45-нанометровой производственной технологии
Новая производственная технология позволит повысить производительность и эффективность энергопотребления будущих платформ Intel.
25 января 2006 г. корпорация Intel объявила о том, что она стала первой в мире компанией, которая достигла важного этапа в развитии 45-нанометровой технологии производства интегральных микросхем. Корпорация Intel создала микросхему, которая стала первой в мире полностью работоспособной микросхемой статической памяти (SRAM, Static Random Access Memory), изготовленной по 45-нанометровой производственной технологии - новейшей технологии массового производства полупроводниковых компонентов.
Этот важный результат подтверждает планы корпорации Intel начать производство микросхем по 45-нанометровой производственной технологии с использованием 300-мм подложек в 2007 году, а также ее намерение следовать закону Мура, внедряя производственные процессы новых поколений каждые два года.
45-нанометровая производственная технология Intel позволит выпускать микросхемы, ток утечки в которых снижен более чем в пять раз по сравнению с микросхемами, выпускающимися сейчас. Это позволит увеличить время автономной работы мобильных устройств, а также открыть новые возможности для создания компактных платформ с расширенной функциональностью.
Микросхема статической памяти, изготовленная по 45-нанометровой производственной технологии, содержит более 1 миллиарда транзисторов. Несмотря на то, что устройство не является конечной продукцией, оно демонстрирует эффективность технологии, работоспособность процесса и надежность микросхем в преддверии выпуска процессоров и других интегральных микросхем по 45-нанометровой производственной технологии. Это первый и очень важный шаг в направлении организации массового производства самых сложных электронных устройств в мире.
Ранее корпорация Intel объявила о том, что кроме фабрики D1D в штате Орегон, где были проведены начальные работы по развертыванию 45-нанометрового производственного процесса, строятся еще две фабрики по массовому производству микросхем по 45-нанометровой производственной технологии: Fab 32 в штате Аризона и Fab 28 в Израиле.
Источник: Корпорация Intel
При перепечатке материала ссылка на innov.ru обязательна
Все новости рубрики
